EDI超純水設(shè)備相關(guān) 二維碼
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發(fā)表時間:2017-04-28 11:26 一.EDI超純水設(shè)備 EDI超純水處理設(shè)備即電去離子系統(tǒng),電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù),它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進行電化學(xué)再生。該設(shè)備主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純。 二.EDI的基本工作原理 EDI是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H+和OH-,這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持最佳狀態(tài)。 EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元,并構(gòu)成淡水室,單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在直流電場的作用下,淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移,陽離子透過陽離子交換膜,陰離子透過陰離子交換膜,分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換,形成超純水(高純水)。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行連續(xù)的再生。傳統(tǒng)的離子交換,離子交換樹脂飽和后需要化學(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)再生,工作是連續(xù)的,不需要酸堿化學(xué)再生。 EDI裝置將給水分成三股獨立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為最終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。 三.EDI裝置的特點 EDI裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運行,進而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點如下: EDI的凈水基本過程: (1)連續(xù)運行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定 (2)容易實現(xiàn)全自動控制 (3)無須用酸堿再生 (4)不會因再生而停機,節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施 (5)產(chǎn)水率高(可達95%)。 EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。 對于高純水系統(tǒng),無論從產(chǎn)水質(zhì)量、性能和操作等方面考慮,還是從運行費用和環(huán)保等方面考慮,反滲透+EDI工藝都是一個理想的選擇。 EDI 污染判斷及8種清洗方法雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機會,但是隨著設(shè)備運行時間的延展,EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞,這主要是EDI進水中含有較多的溶質(zhì),在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過0.8ppm)、CO2和較高的 PH 值,將會加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI膜塊進行清洗,使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。 通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定: 1、在進水溫度、流量不變的情況下,進水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高 45%。 2、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水進水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。 3、在進水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下,產(chǎn)水水質(zhì)(電阻率)明顯下降。 4、在進水溫度、流量不變的情況下,濃水排水流量下降35%。 膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式: 1、顆粒/膠體污堵 2、無機物污堵 3、有機物污堵 4、微生物污堵 EDI 清洗注意:在清洗或消毒之前請先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程,切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進行化學(xué)清洗。 聲明:本文源自盛鑫華業(yè)環(huán)保設(shè)備整合整理,如本站文章和轉(zhuǎn)稿涉及版權(quán)等問題,請作者在及時聯(lián)系本站,我們會盡快處理。 |
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